同步辐射X射线衍射方法 及其在铁电和半导体材料中的应用
讲座名称：
同步辐射X射线衍射方法 及其在铁电和半导体材料中的应用
讲座时间：
2015-12-04
讲座人：
杨铁莹
形式：
校区：
兴庆校区
实践学分：
讲座内容：
报告题目：同步辐射X射线衍射方法 及其在铁电和半导体材料中的应用
报告人：杨铁莹 中科院上海应用物理研究所，上海光源
报告时间：2015年12月4日下午2:30-4:00
地点：材料学院205会议室
报告摘要：
上海光源是最目前世界上最先进的中能同步辐射光源之一。上海光源衍射光束线站着眼于材料科学、凝聚态物理等领域，以多晶粉末、薄膜/超薄膜的表面和界面、纳米材料的微结构等为主要研究对象。高分辨粉末衍射、掠入射衍射、反射率，倒空间绘制、极图是目前使用最广泛的实验方法。利用这些实验方法我们研究了铁电薄膜，氧化物半导体薄膜的微结构；首次发现BiFeO3薄膜表面存在双层结构，对铁电薄膜和器件研究具有重要价值；揭示了透明导电氧化物薄膜微结构与光电性能的关系。
相关视频