草野英二教授系列讲座（二）
讲座名称：
草野英二教授系列讲座（二）
讲座时间：
2011-11-04
讲座人：
草野英二
形式：
校区：
兴庆校区
实践学分：
讲座内容：
应我校理学院材料物理系邀请，日本金泽工业大学先进材料科学研究中心草野英二教授于11月3日开始访问我校。草野教授在材料溅射、薄膜领域有很深的造诣和丰富的经验，发表论文400余篇，著有《薄膜制备技术》等专著。本次访问，将与我校师生在制备高性能薄膜材料及成膜机理方面进行深入的交流与研讨，并进行学术讲座。
讲座题目：Fundamentals of Sputtering
内容：
1. Fundamentals
2. Fundamentals of Sputtering
3. Internal Stress of Sputter-deposited thin Films
4. Adhesion
5. Particles in Sputtering
6. Summary
讲座时间：11月4日（周五） 14:00-16:00
地点：理学院物理学科中1楼3113室
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