Plasma Micro/Nano Process: Diagnostics and Simulation
讲座名称：
Plasma Micro/Nano Process: Diagnostics and Simulation
讲座时间：
2010-01-12
讲座人：
真壁利明
形式：
校区：
兴庆校区
实践学分：
讲座内容：
应电子物理与器件教育部重点实验室的邀请，日本庆应大学教授真壁利明(Toshiaki Makabe)博士将于1月10日来我校访问，并举行4次关于等离子体微纳加工、CT诊断与仿真的学术讲座，欢迎广大师生参加！
讲座题目：Plasma Micro/Nano Process: Diagnostics and Simulation
讲座时间：1月11日(星期一) 下午14:20-17:00 西安交大客座教授聘任仪式, 讲座Ⅰ, 讲座Ⅱ
1月12日(星期二) 上午10:00-12:00 讲座Ⅲ, 讲座Ⅳ
讲座地点：科学馆207室
讲座内容：
讲座Ⅰ： 1. Brief history of low temperature plasmas; 2. What are the present targets to study; 3. Set of basic equations and database; 4. Future subject to be overcome
讲座Ⅱ： 1. From low-technology to high-tech for device process; 2. Reactors for low temperature plasma process; 3. Materials and related chemistry for plasma etching; 4. Database for plasma process
讲座Ⅲ： 1. Unique characteristics of reactive low temperature plasma for surface process
2. Governing equation system for a low temperature system and surface process
讲座Ⅳ： 1. What kinds of techniques are applied to diagnose a plasma structure, i.e. 2D or 3D image? 2. Plasma etching is related to a local charge accumulation
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